IC Layout设计【2】
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发表于 2011/3/13 16:41:28
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绘制inv的掩膜版图的一些准备工作
首先，在library manager中打开inv这个cell的layout view。即打开了virtuoso editing窗口，如图2所示。
版图视窗打开后，掩模版图窗口显现。视窗由三部分组成：Icon menu , menu banner , status banner.
status banner（状态显示栏），位于menu banner的上方，显示的是坐标、当前编辑指令等状态信息。
在版图视窗外的左侧还有一个层选择窗口（Layer and Selection Window LSW）。
LSW视图的功能：
1） 可选择所编辑图形所在的层；
2） 可选择哪些层可供编辑；
3） 可选择哪些层可以看到。
由于我们所需的部分版图层次在初始LSW中并不存在，因此下一步要做的是：建立我们自己的工艺库所需的版图层次及其显示属性。为了简单起见，以下仅列出绘制我们这个版图所需的最少版图层次。
下图是修改后的LSW。
如何来修改LSW中的层次呢？以下就是步骤：
切换至CIW窗口，在technology file的下拉菜单中选择最后一项edit layers出现如图窗口。
1． 在technology library中选择库mylib，先使用delete 功能去除不需要的层次。然后点击add添加必需的层次，add打开如下图的窗口：
其 中，layer name中填入所需添加的层的名称。Abbv是层次名称缩写。Number是系统给层次的内部编号，系统保留128－256的数字作为其默认层次的编号而 将1－127留给开发者创造新层次。Purpose是所添加层次的功用，如果是绘图层次，一般选择drawing。Priority是层次在LSW中的排 序位置。其余的选项一般保持默认值。在右边是图层的显示属性。可以直接套用其中某些层次的显示属性。也可以点击edit resources自己编辑显示属性。如图6所示（这个窗口还可以在LSW中调出） 编辑方法很简单，读者可以自己推敲，就不再赘述。上述工作完毕后就得到我们所需的层次。接着我们就可以开始绘制版图了。
